，重生之芯片大亨
郑南把基于MS6502芯片的精简研究交给周敏德，郑南告诉周敏德目前MS6502优先攻关，其他研究项目都可以暂停延后。
郑南的要求也很简单，不需要原本的CPU功能，不需要太多的自主运算能力，只需要像VCD芯片那样拥有读取画面和声音的能力即可，但性能要求比VCD芯片更高。
“尤其在接受信号指令实时给出反馈这一块！”郑南强调。
虽然同是读取存储画面和声音，但VCD只是单纯的播放功能，人为干预最多也就是快进倒带或者是选择曲目一类，可游戏就不一样了，玩家有太多的随机性和不可控性，这就需要大大增强芯片的性能才行。
否则要继续沿用VCD那种类型芯片，就跟让三岁小孩去做高数一样，就没那个能力知道吗。
同时这款芯片又必须附和目前65光刻机的生产能力。
其实郑南在提这些要求都有点不好意思，认为自己是不是太过分了，又要求性能，又要求制程不能太苛刻，这简直是又要马儿跑又不能吃草。
结果出乎预料的是周敏德很自然的点头表示没问题：“MS6502原本就是作为真正电子计算机级CPU被设计出来的，他的性能设计存在相当大的冗余，所以存在很大的操作空间。”
当然周敏德也建议郑南：“不过最好关于制程方面的推进也不能放松，毕竟只有更先进的制程工艺，才能生产性能更好的芯片，实话说毫米级制程已经跟不上时代了。”
周敏德说的比较委婉，但郑南很清楚在这个芯片制程已经迈入纳米领域的时代，毫米级制程基本就是废物，如果不是第一代VCD芯片是由LD机芯片改良而来，再加上其他调节器的辅助，就连VCD芯片也不能是毫米级。
离开半导体实验室，郑南就询问李兴现在的光刻机到底能不能做到18微米级制程。
李兴肯定的回答可以：“虽然65光刻机是二十多年前的技术，但依然能做到理论上1微米的制程生产。”
犹豫片刻，李兴还是说：“我认为现在摆在我们面前的难题不是能不能做18微米制程，而是良品率问题。”
李兴告诉郑南原本按照无线电厂那种日夜不停的倒班生产模式，理论上能做到一个月产出一万枚以上的芯片，可无线电厂始终都没有突破两千枚的产量。
李兴表示他信任刘工的人品，他认为这不是无线电厂有意为之，实在是接触式光刻机的弊端太明显。
“由于65光刻机本质上就是一台投影曝光器，他需要将光掩模完全覆盖在光刻胶上，这其中包括烘焙控温以及覆盖和光照的多少等等，各种变量工艺太多，中间哪怕出现一点小小偏差，就能导致整张硅片报废。”李兴说。
跟后世一样，高制程推进不下去，不是制造技术方面的原因，归根结底还是缺少更好的光刻机。
“这些我知道，那我们可以试着把光掩模从光刻胶上抬起来试试看，你不是说国外新一代光刻机都是这么做的吗？”郑南问。
李兴苦笑：“厂长，这样做行不通的，因为光并不是沿直线传播的。”
李兴告诉郑南光具有波粒二象性，或许眼睛看起来光是一条直线，可当光穿过窄缝，就是呈现水波纹一样的扩散特性。
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“简单说就是光在穿过一微米的窄缝以后，马上就会扩大到两微米甚至更大，甚至光掩模抬的距离越高，扩散的范围也会越大，这样反而还没原来的制程精细了。”
李兴还说光在通过几个相邻的窄缝，还会发生自己跟自己干涉的现象，导致成像更加模糊不清。
郑南扶额，看来自己对光刻机还有芯片制造工业的了解还是浅显了，没想到只是一个制程推进，居然还牵扯到了当年逼疯爱因斯坦大佬的光的波粒二象性和双缝干涉实验上，那可是连爱因斯坦这种级别的大佬都没辙的玩意。
直接点说，就是接触式光刻法，良品率无法保证；但要是抬起来光掩模不接触光刻，精度又无法保证，简直鱼与熊掌不可兼得。原本郑南还很雄心勃勃，想着自己能跟那些重生网文的主角一样，轻松搞出光刻机来。
现在别说后世的深紫外极紫外光刻机了，就一个光的波粒二象性就能轻松卡死自己，遥想自己曾经看的那些轻松造光刻机的网文，那真是对光学系统甚至是最基本的光学芯片知识都完全无知呀！
这板马日的不是白耽误自己重生的工夫吗？
郑南很想骂娘。
郑南并没有放弃：“所以李主任，我们现在当务之急是必须购买一台国外的新式光刻机，参考他们的设计思路吗？”
李兴点头说是：“但也不是绝对的，因为当年光刻机项目下马前，听说燕都那边已经绕过波粒二象性和双缝干涉特性，搞出投影式光刻机的设计思路了，如果我们能拿到设计图纸或者材料，我们继续深化研究，应该也能造出不接触的投影光刻机。”
考古式科研。
对于李兴的话，郑南脑中突然冒出这个后世互联网上经常用于调侃的词汇，现在郑南居然有了深刻的沉浸式体验。
好家伙，这些电子厂为了单纯的追求效益，究竟放弃了多少先进技术。
“不管怎么说，李主任你现在的任务就是先把用接触式光刻机生产18微米芯片的技术方案搞定，不行我们把剩下那些原本作为备用的镜片也全用上，多造几台光刻机，拿数量弥补一下吧。”郑南说。
这是没办法的办法，郑南信任庄卫的技术，只要这些镜片不被人为损坏，至少使用半年以上是没问题的。
而半年以后，庄卫那边超精磨床到货，新一代镜片不好说，但至少65光刻机的镜片他就能批量生产，就没问题了。
至于下一代非接触光刻机的设计图纸和材料那些，郑南只能另外想办法了。
李兴郑重点头，表示目前光刻难度在光掩模的制造上：“不过关于更精细的光掩模制作，我已经想到了方案，接下来我再进行几轮论证，不出意外肯定能赶上MS6502芯片的生产任务。”